無圖案晶圓檢測系統(tǒng) Surfscan® SP1TBI Pro 和 SP1DLS Pro 系統(tǒng)是業(yè)界公認(rèn)的無圖案晶圓檢測的主力工藝控制系統(tǒng)，適用于射頻、汽車、SiC、GaN、LED等新興技術(shù)。在整個(gè)半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)中，為襯底、IC、設(shè)備和材料制造商提供所需的工藝和設(shè)備的認(rèn)證與監(jiān)測。 SP1TBI 和 SP1DLS Pro系統(tǒng)都以成功的Surfscan®平臺為基礎(chǔ)，旨在實(shí)時(shí)捕獲裸晶圓、光滑和粗糙薄膜和堆疊、光阻和光刻堆疊上的關(guān)鍵缺陷，并對其進(jìn)行分類。 通過及早發(fā)現(xiàn)和識別這些關(guān)鍵缺陷和表面質(zhì)量問題，Surfscan SP1 Pro系統(tǒng)能夠更快地識別工藝和設(shè)備問

Surfscan® SP2 / SP2XP無圖案晶圓缺陷檢測系統(tǒng) Surfscan® SP2和SP2XP系統(tǒng)是KLA革命性的Surfscan SP1平臺的第二代產(chǎn)品，用于無圖案晶圓檢測。Surfscan SP2采用了開創(chuàng)性的紫外線(UV)激光技術(shù)、新的暗場光學(xué)技術(shù)和先進(jìn)的算法，能夠發(fā)現(xiàn)小至37nm的缺陷，在相同的靈敏度下，其產(chǎn)量比上一代系統(tǒng)快2倍。 SP2專為射頻、汽車、SiC、GaN、LED等新興技術(shù)和高達(dá)≥4xnm設(shè)計(jì)規(guī)則的成熟工藝節(jié)點(diǎn)而設(shè)計(jì)，在整個(gè)半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)中，為襯底、IC、設(shè)備和材料制造商提供其所需的工藝和設(shè)備的認(rèn)證與監(jiān)測。 Surf

Archer? 10XT+光學(xué)套刻量測 套刻量測系統(tǒng)為各種不同類型、尺寸、材料、厚度的襯底提供穩(wěn)定、準(zhǔn)確、可靠和可重復(fù)的套刻對準(zhǔn)及CD測量。可為生產(chǎn)IoT、汽車、μLED和移動(dòng)領(lǐng)域產(chǎn)品的半導(dǎo)體制造廠提供所需的快速、可重復(fù)和系統(tǒng)間匹配等性能； 設(shè)備性能： 1、高產(chǎn)量可以實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)有效的套刻工藝監(jiān)控，并促進(jìn)大批量生產(chǎn)； 2、擁有先進(jìn)的對準(zhǔn)顯微鏡系統(tǒng)和可變光學(xué)照射系統(tǒng)配合適用于高、低不同對比度的工藝層測量。 3、支持Si、SiC、GaN、石英、玻璃、GaAs和其他透明材質(zhì)的晶圓襯底。 5D Analyzer?: 可定制的模型和分析方案可為您晶圓廠內(nèi)的所

Archer? 200套刻量測系統(tǒng) Archer 200 套刻量測系統(tǒng)為各種不同類型、尺寸、材料、厚度的襯底上提供穩(wěn)定、準(zhǔn)確、可靠和可重復(fù)的套刻對準(zhǔn)及CD測量?？蔀樯a(chǎn)IoT、汽車、μLED和移動(dòng)電話領(lǐng)域的產(chǎn)品的晶圓廠提供所需的快速、可重復(fù)和系統(tǒng)間匹配的性能及高產(chǎn)量可以實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)有效的套刻工藝監(jiān)控，并促進(jìn)大批量生產(chǎn)先進(jìn)的對準(zhǔn)顯微鏡系統(tǒng)和可變光學(xué)照射系統(tǒng)配合，適用于高、低不同對比度的工藝層測量支持Si、SiC、GaN、石英、玻璃、GaAs和其他透明材料的晶圓襯底。 5D Analyzer?: 可定制的模型和分析菜單為晶圓廠內(nèi)的所有步進(jìn)式、掃描式光刻機(jī)提供準(zhǔn)確的校正。多元化

Archer™ 300套刻量測系統(tǒng) 建立在業(yè)界領(lǐng)先的Archer平臺上的光學(xué)套刻測量。  Archer 300 套刻量測系統(tǒng)為各種不同類型、尺寸、材料、厚度的襯底提供穩(wěn)定、準(zhǔn)確、可靠和可重復(fù)的套刻對準(zhǔn)及CD測量?？蔀樯a(chǎn)IoT、汽車、μLED和移動(dòng)電話領(lǐng)域產(chǎn)品的晶圓廠提供所需的快速、可重復(fù)和系統(tǒng)間匹配的性能。 5D Analyzer®: 可定制的模型和分析方案可為您晶圓廠內(nèi)的所有步進(jìn)式和掃描式光刻機(jī)提供準(zhǔn)確的校正。 多元分析將針對套刻偏離信息迅速提供解決方案。中央數(shù)據(jù)庫負(fù)責(zé)存儲來自您的套刻設(shè)備、步進(jìn)光刻機(jī)和掃描光刻機(jī)